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近日,據DigiTimes報道,ASML公司試圖規避荷蘭的新銷售許可禁令,推出面向中國市場的特別版DUV光刻機。如果該項目順利推進,中芯國際、華虹等中國半導體企業將能夠繼續使用荷蘭的設備生產28納米及更成熟工藝的芯片。

據消息透露,這款特別版DUV光刻機是基于Twinscan NXT: 1980Di光刻系統進行改造的。而1980Di是10年前推出的舊型號,不在本次官方禁令范圍內。雖然1980Di光刻機的效率相對較低,但它支持NA 1.35光學器件,分辨率可以達到小于38納米,理論上能夠支持7納米工藝。
這一舉措被認為是ASML公司試圖規避荷蘭銷售許可禁令的一種策略。荷蘭新銷售許可禁令對一些高級制造設備的出口進行了限制,其中包括用于半導體制造的光刻機。然而,ASML公司通過推出基于舊型號的特別版DUV光刻機,似乎找到了規避禁令的方法。
對于中國半導體企業來說,這款特別版DUV光刻機的推出無疑是一項重要的利好消息。中芯國際、華虹等公司將能夠繼續使用這些荷蘭設備,保持生產28納米及更成熟工藝的芯片的能力。
然而,這一舉措也引發了一些討論和關注。一方面,特別版DUV光刻機雖然基于舊型號進行改造,但其仍然具備支持較為先進的工藝的潛力。另一方面,ASML公司的行為是否符合荷蘭銷售許可禁令的意圖,以及是否會引發更廣泛的討論和爭議,尚待觀察。
總之,ASML公司推出面向中國市場的特別標題: "ASML推出面向中國市場的特別版DUV光刻機,規避荷蘭銷售許可禁令"
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