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繞過EUV技術 佳能著手銷售5nm芯片生產設

2023-10-15 18:46:47 編輯:聶慶平 來源:
導讀 光刻機大廠佳能近期宣布已經開始銷售基于納米印刷技術的芯片生產設備,該設備采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造5納米芯片。這套生產...

光刻機大廠佳能近期宣布已經開始銷售基于“納米印刷”技術的芯片生產設備,該設備采用不同于復雜光刻技術的方案,可以制造5納米芯片。這套生產設備的工作原理與ASML的光刻機是不一樣的,其并不利用光學圖像投影的原理,將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓,則是更類似于印刷技術,直接通過壓印形成圖案。

與傳統的EUV光刻技術相比,這項技術能夠大大的降低耗能,并且可以降低設備成本。雖然這項技術的優點很明顯,但是現階段導入量產上仍然有很多問題需要繼續解決,包括更容易因為空氣當中的細微塵埃影響而形成瑕疵。本次佳能發布的設備可以應用于最小14平方毫米的硅晶圓,從而能夠生產出相當于5納米工藝的芯片。


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